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FAC—正向作用磁盤

FAC正向作用爆破片(爆破片)是複合設計與工藝側環。設計用於FAH預扭矩支架。

規格:
大小 1″- 12″(25毫米- 300毫米)
爆破壓力範圍 3 psig - 2500 psig (0.21 barg - 171 barg)
操作比 85%
真空所需支持 是的
  • FAC係列是一個開槽金屬頂部部分,允許使用金屬和聚四氟乙烯密封材料。有多種耐腐蝕的密封材料可供選擇
  • 最先進的激光開槽金屬爆破帽
  • 操作比高達85%的低爆耐受性
  • 獨特的定位銷設計確保正確的磁盤定位到FAH係列磁盤支架
  • 磁盤設計提供高循環壽命
  • 優秀的液體,氣體或2相流
  • 尺寸從1”(25毫米)到12”(300毫米)
  • 突發等級從3 psig (0.21 barg)到2500 psig (172.37 barg)
  • 三維不鏽鋼標簽永久刻有完整的磁盤規格
  • CE (PED),和TÜV合規可用
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